Mô tả
Ứng dụng của khí CF4
- Carbon Tetrafluoromethane (CF4) đôi khi được sử dụng làm chất làm lạnh ở nhiệt độ thấp. Có thể một mình hoặc kết hợp với oxy như là một etchant plasma cho silicon , silicon dioxide và silicon nitride;
- Nó cũng có công dụng trong các máy dò neutron;
- Là một chất lỏng đông lạnh phù hợp cho các ứng dụng đòi hỏi nhiệt độ cực lạnh.
- Trong ngành nghiên cứu y tế và chăm sóc sức khỏe, chất lỏng đông lạnh giúp bảo tồn vật liệu di truyền và được sử dụng trong laser để tiêu diệt các mô ung thư trong phẫu thuật.
- CF4 lỏng được sử dụng để bảo quản vật liệu di truyền
- Do tính chất cực kì ổn định về mặt hóa học, khí CF4 cũng có thể được sử dụng trong công nghiệp nấu kim loại và công nghiệp nhựa.
- CF4 còn được sử dụng rộng rãi trong các lĩnh vực làm sạch bề mặt các thiết bị điện tử hay mạch in, sản xuất pin năng lượng mặt trời, công nghệ laser, khí cách nhiệt, điện lạnh, kiểm tra rò rỉ, điều khiển tên lửa vũ trụ và chất tẩy rửa trong sản xuất mạch in trong công nghiệp.
- CF4 cũng được sử dụng để làm sạch các buồng bán dẫn,…
Thông số kỹ thuật của khí CF4 MIG cung cấp
Các loại kích cỡ bình
- 10lít; 40 lít
- Áp suất: 100 bar;
CF4- 99,2%
- Tetrafluorometan: 99,2%
- Nitơ + Oxy: 0,7%
- Hexfluoroethane + Carbon Dioxide: 0,1%
- Nội dung khối lượng của nước: <1 ppm
- Độ axit: <0,1 ppm
CF4 Độ tinh khiết 99,99%
- Tetrafluorometan: > 99,99%
- Oxy: <5 ppm
- Nitơ: <10 ppm
- Carbon Dioxide + Carbon Monoxide: <2 ppm
- Halocarbons khác: <2 ppm
- Hexafluoride lưu huỳnh: <1 ppm
- Độ ẩm: <2 ppm
- Độ axit (như Hydrogen Fluoride): <0,1 ppm
CF4 độ tinh khiết 99,999%
- Tetrafluorometan: > 99,999%
- Oxy + Argon: <1 ppm
- Nitơ: <4 ppm
- Carbon Dioxide + Carbon Monoxide: <1 ppm
- Halocarbons khác: <2 ppm
- Hexafluoride lưu huỳnh: <1 ppm
- Độ ẩm: <1 ppm
- Độ axit (như Hydrogen Fluoride): <0,1 ppm
